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| 单片2波长半导体激光器及其制造方法 专利 专利类型: 授权发明, 专利号: CN1933265B, 申请日期: 2010-05-12, 公开日期: 2010-05-12 发明人: 松木义幸; 万浓正也; 福久敏哉; 鹈饲勉 Adobe PDF(494Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:47/0  |  提交时间:2019/12/26 |
| 半導体レーザ装置 专利 专利类型: 发明申请, 专利号: JP2007142227A, 申请日期: 2007-06-07, 公开日期: 2007-06-07 发明人: 福久 敏哉; 萬濃 正也; 古川 秀利 Adobe PDF(117Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:50/0  |  提交时间:2020/01/18 |
| 半導体レーザ装置 专利 专利类型: 发明申请, 专利号: JP2007067305A, 申请日期: 2007-03-15, 公开日期: 2007-03-15 发明人: 福久 敏哉; 萬濃 正也; 古川 秀利 Adobe PDF(101Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:55/0  |  提交时间:2020/01/13 |
| 半导体激光装置及其制造方法 专利 专利类型: 发明申请, 专利号: CN1901302A, 申请日期: 2007-01-24, 公开日期: 2007-01-24 发明人: 福久敏哉; 万浓正也; 古川秀利 Adobe PDF(2453Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:61/0  |  提交时间:2020/01/18 |
| 半導体レーザ装置及びその製造方法 专利 专利类型: 发明申请, 专利号: JP2006287057A, 申请日期: 2006-10-19, 公开日期: 2006-10-19 发明人: 能米 雅信; 古川 秀利; 萬濃 正也; 福久 敏哉 Adobe PDF(145Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:38/0  |  提交时间:2020/01/18 |
| 半導体レーザの製造方法及び半導体レーザ 专利 专利类型: 发明申请, 专利号: JP2006287055A, 申请日期: 2006-10-19, 公开日期: 2006-10-19 发明人: 福久 敏哉; 萬濃 正也; 古川 秀利 Adobe PDF(129Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:37/0  |  提交时间:2020/01/18 |
| 半導體激光器及使用該激光器的光盤裝置 专利 专利类型: 授权发明, 专利号: HK1017161A1, 申请日期: 2004-04-23, 公开日期: 2004-04-23 发明人: 大戶口勳; 足立秀人; 萬濃正也; 福久敏哉; 高森晃 收藏  |  浏览/下载:68/0  |  提交时间:2019/12/26 |
| 半導体レーザの製造方法 专利 专利类型: 授权发明, 专利号: JP3521793B2, 申请日期: 2004-02-20, 公开日期: 2004-04-19 发明人: 福久 敏哉; 萬濃 正也; 吉川 昭男 Adobe PDF(268Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:51/0  |  提交时间:2020/01/13 |
| 窒化ガリウム系半導体の製造方法 专利 专利类型: 授权发明, 专利号: JP3353527B2, 申请日期: 2002-09-27, 公开日期: 2002-12-03 发明人: 石橋 明彦; 萬濃 正也; 大仲 清司; 武石 英見 Adobe PDF(47Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:74/0  |  提交时间:2019/12/24 |
| 半導体発光素子及び半導体発光装置 专利 专利类型: 授权发明, 专利号: JP3252779B2, 申请日期: 2001-11-22, 公开日期: 2002-02-04 发明人: 上山 智; 鈴木 政勝; 上野山 雄; 大仲 清司; 高森 晃; 萬濃 正也; 木戸口 勲; 足立 秀人; 石橋 明彦; 福久 敏哉; 熊渕 康仁 Adobe PDF(197Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:72/0  |  提交时间:2019/12/26 |