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Electron vortex generations in photoionization of hydrogen atoms by circularly-polarized chirped attosecond pulses 期刊论文
COMMUNICATIONS IN THEORETICAL PHYSICS, 2024, 卷号: 76, 期号: 1
作者:  Zhang, Bingshuang;  Liu, Xiaoyu;  Zhu, Fengzheng;  Jiao, Liguang;  Liu, Aihua
Adobe PDF(1139Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:90/0  |  提交时间:2024/02/29
photoionization  ultrafast processes  ultrafast dynamics  electron vortex  
Electron vortices generation of photoelectron of H 2 + by counter-rotating circularly polarized attosecond pulses 期刊论文
Chinese Physics B, 2024, 卷号: 33, 期号: 1
作者:  Yang, Haojing;  Liu, Xiaoyu;  Zhu, Fengzheng;  Jiao, Liguang;  Liu, Aihua
Adobe PDF(1710Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:94/2  |  提交时间:2024/03/07
photoelectron momentum distribution  attosecond pulse  vortex  
50 mm白光球载日冕仪:Ⅰ.基本结构与地面观测实验 期刊论文
中国科学:物理学 力学 天文学, 2023, 卷号: 53, 期号: 5
作者:  林隽;  宋腾飞;  孙明哲;  张涛;  许方宇;  王晶星;  付玉;  李燕;  康凯锋;  黄旻;  刘洋;  周江华;  张晓军;  夏利东;  张红鑫;  刘大洋;  宋红强;  田晖;  皮晓宇;  伏红林;  张雪飞;  赵明宇;  刘煜;  李语强;  金振宇;  宋海军
Adobe PDF(3143Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:157/0  |  提交时间:2023/10/10
临近空间  日冕仪  天文台址  球载装置  望远镜系统研制  光机结构设计  杂散光抑制  
一种方便纹影系统光路调试的刀口监测控制系统 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201920693294.9, 申请日期: 2020-01-31, 公开日期: 2020-01-31
发明人:  陈磊;  赵卫;  朱涛;  许晓斌;  徐崧博;  章起华;  任尚杰;  屈恩世;  马晓宇;  黄炎;  彭龙辉;  李杰;  谢飞;  徐筠;  刘诚筠
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半导体激光器芯片、其封装方法及半导体激光器 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN110289549A, 申请日期: 2019-09-27, 公开日期: 2019-09-27
发明人:  赵碧瑶;  井红旗;  刘翠翠;  刘素平;  马骁宇
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN106099637B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
发明人:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  仲莉;  刘素平;  马骁宇
Adobe PDF(944Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:182/0  |  提交时间:2019/12/26
基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN106025795B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
发明人:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  王文知;  仲莉;  刘素平;  马骁宇
Adobe PDF(853Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:182/0  |  提交时间:2019/12/26
基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN106025795B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
发明人:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  王文知;  仲莉;  刘素平;  马骁宇
Adobe PDF(853Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:168/0  |  提交时间:2019/12/26
半导体器件芯片结构及其制备方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN110277733A, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
发明人:  曼玉选;  祁琼;  彭岩;  刘素平;  马骁宇
Adobe PDF(1073Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:355/0  |  提交时间:2020/01/18
基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN106099637B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
发明人:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  仲莉;  刘素平;  马骁宇
Adobe PDF(944Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:186/0  |  提交时间:2019/12/26