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Theoretical and experimental investigation of secondary electron emission characteristics of MgO coating produced by atomic layer deposition 期刊论文
Ceramics International, 2020, 卷号: 46, 期号: 6, 页码: 8352-8357
作者:  Junjiang Guo;  Dan Wang;  Kaile Wen;  Yantao Xu;  Xiangping Zhu;  Lutao Liu;  Weiwei Cao;  Jinhai Si;  Min Lu;  Haitao Guo
Adobe PDF(1565Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：249/6  |  提交时间：2020/01/07
MgO coating  Secondary electron emission  Atomic layer deposition (ALD)  Microchannel plate (MCP)  
原子层沉积微通道板的研究进展 期刊论文
材料导报, 2020, 卷号: 34, 期号: 2, 页码: 03080-03089
作者:  郭俊江;  朱香平;  许彦涛;  曹伟伟;  邹永星;  陆敏;  彭波;  司金海;  郭海涛
Adobe PDF(7593Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：322/4  |  提交时间：2020/03/30
微通道板  原子层沉积  功能层  增益  寿命  
一种微通道板及在微通道板内壁制备Ni掺杂AlO高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201810791167.2, 申请日期: 2019-12-31,
发明人:  郭俊江;  彭波;  郭海涛;  许彦涛;  朱香平;  曹伟伟;  邹永星;  陆敏
Adobe PDF(457Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：275/0  |  提交时间：2019/09/05
Secondary electron emission characteristics of Al2O3 coatings prepared by atomic layer deposition 期刊论文
AIP Advances, 2019, 卷号: 9, 期号: 9
作者:  Guo, Junjiang;  Wang, Dan;  Xu, Yantao;  Zhu, Xiangping;  Wen, Kaile;  Miao, Guanghui;  Cao, Weiwei;  Si, JinHai;  Lu, Min;  Guo, Haitao
Adobe PDF(3047Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：358/5  |  提交时间：2019/09/30
微通道板及在微通道板内壁制备Cu掺杂AlO高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201910068958.7, 申请日期: 2019-01-24,
发明人:  郭俊江;  彭波;  郭海涛;  朱香平;  许彦涛;  曹伟伟;  邹永星;  陆敏
Adobe PDF(413Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：177/1  |  提交时间：2020/01/06
微通道板用微阵列基板的制备方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201810510267.3, 申请日期: 2018-11-16, 公开日期: 2018-11-16
发明人:  许彦涛;  郭海涛;  陆敏;  朱香平;  郭俊江;  邹永星;  彭波
Adobe PDF(996Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：210/0  |  提交时间：2018/12/28
一种微通道板及在微通道板内壁制备Ni掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201810791167.2, 申请日期: 2018-07-18, 公开日期: 2019-01-11
发明人:  郭俊江;  彭波;  郭海涛;  许彦涛;  朱香平;  曹伟伟;  邹永星;  陆敏
Adobe PDF(1689Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：192/1  |  提交时间：2019/08/30
原子层沉积制备W掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN108588679A, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1359Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：142/0  |  提交时间：2019/08/30
原子层沉积制备Mo掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN108588680A, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1206Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：115/0  |  提交时间：2019/08/27
原子层沉积制备W掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201810489471.1, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1357Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：152/0  |  提交时间：2018/12/29