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| 成像系统 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN208921603U, 申请日期: 2019-05-31, 公开日期: 2019-05-31
发明人: 达尼洛·孔代洛; 西蒙·普林斯; 大卫·哈吉斯; 杰弗里·本迪克; 克里斯多佛·西格尔
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| 一种“面发射”波导激光器谐振腔的制备方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN109755849A, 申请日期: 2019-05-14, 公开日期: 2019-05-14
发明人: 姚一村; 张丽强; 德特列夫·基普; 克里斯汀·埃尔文·豪恩霍斯特; 塞吉·索恩索夫; 多米内克·布鲁斯克; 伊娃·法茨格拉夫
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| 使用混合模式光源来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN108572140A, 申请日期: 2018-09-25, 公开日期: 2018-09-25
发明人: 达尼洛·孔代洛; 西蒙·普林斯; 大卫·哈吉斯; 杰弗里·本迪克; 克里斯多佛·西格尔
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| 用于平移光的照明模块 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN108027129A, 申请日期: 2018-05-11, 公开日期: 2018-05-11
发明人: 德米特里·巴金; 摩西·多伦; 马蒂亚斯·葛鲁尔; 马库斯·罗西
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| 注入调制器 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN106716239B, 申请日期: 2018-04-10, 公开日期: 2018-04-10
发明人: 斯特凡·梅斯特; 奥斯·阿尔-萨阿迪; 塞巴斯蒂安·库皮贾伊; 克里斯多佛·泰斯; 李翰尧; 拉尔斯·齐默尔曼; 大卫·斯托拉雷克
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| 发光模块 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN103974485B, 申请日期: 2017-12-19, 公开日期: 2017-12-19
发明人: 姜日映; 权奇首; 李相勋; 朱根铎; 崔太荣
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| 具有独立调制光栅区段以减少啁啾的双区段半导体激光器 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN107454990A, 申请日期: 2017-12-08, 公开日期: 2017-12-08
发明人: 郑军; 默里·史蒂芬 J; 克劳斯·亚历山大·安索姆; 张焕林; 迪恩·麦因托希·朵希
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| 具有包括采样光栅的多个序列式区段的可调谐激光器 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN107210584A, 申请日期: 2017-09-26, 公开日期: 2017-09-26
发明人: 郑军; 克劳斯·亚历山大·安索姆; 张焕林; 迪恩·麦因托希·朵希
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| 半导体激光刻蚀机 专利
专利类型: 外观设计, 专利号: CN304188505S, 申请日期: 2017-06-27, 公开日期: 2017-06-27
发明人: 李博宇; 刘立文; 郭坤铎; 马国东; 周志伟; 尹建刚; 曾威; 高云峰
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| 半导体激光刻蚀机 专利
专利类型: 外观设计, 专利号: CN304188505S, 申请日期: 2017-06-27, 公开日期: 2017-06-27
发明人: 李博宇; 刘立文; 郭坤铎; 马国东; 周志伟; 尹建刚; 曾威; 高云峰
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