Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
半导体激光刻蚀机 | |
其他题名 | 半导体激光刻蚀机 |
李博宇; 刘立文; 郭坤铎; 马国东; 周志伟; 尹建刚; 曾威; 高云峰 | |
2017-06-27 | |
专利权人 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
公开日期 | 2017-06-27 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 外观设计 |
摘要 | 本外观设计产品的名称:半导体激光刻蚀机。 2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于对硅晶圆进行激光加工。 3.本外观设计产品的设计要点:在于整体形状构造、色彩及其结合。 4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图。 5.省略视图:本外观设计产品的仰视图不常见且无设计要点,故省略。 6.请求保护的外观设计包含色彩。 |
其他摘要 | 本外观设计产品的名称:半导体激光刻蚀机。 2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于对硅晶圆进行激光加工。 3.本外观设计产品的设计要点:在于整体形状构造、色彩及其结合。 4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图。 5.省略视图:本外观设计产品的仰视图不常见且无设计要点,故省略。 6.请求保护的外观设计包含色彩。 |
申请日期 | 2016-10-28 |
专利号 | CN304188505S |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN201630535735.4 |
公开(公告)号 | CN304188505S |
IPC 分类号 | - |
专利代理人 | - |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50212 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李博宇,刘立文,郭坤铎,等. 半导体激光刻蚀机. CN304188505S[P]. 2017-06-27. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN304188505S.PDF(282KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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