OPT OpenIR

浏览/检索结果: 共6条,第1-6条 帮助

已选(0)清除 条数/页:   排序方式:
半導体光集積素子および半導体光集積素子の製造方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: JP2010109215A, 申请日期: 2010-05-13, 公开日期: 2010-05-13
发明人:  鶴岡 清貴;  加藤 友章;  佐藤 健二;  須藤 信也;  岡本 健志;  水谷 健二;  森本 卓夫
Adobe PDF(350Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:44/0  |  提交时间:2019/12/31
半導体光集積素子およびその製造方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: JP2009038120A, 申请日期: 2009-02-19, 公开日期: 2009-02-19
发明人:  鶴岡 清貴;  工藤 耕治;  須藤 信也
Adobe PDF(269Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:40/0  |  提交时间:2020/01/18
半導体レーザの製造方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: JP2000138418A, 申请日期: 2000-05-16, 公开日期: 2000-05-16
发明人:  鶴岡 清貴
Adobe PDF(144Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2020/01/13
半導体レーザとその製造方法 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: JP3001390B2, 申请日期: 1999-11-12, 公开日期: 2000-01-24
发明人:  鶴岡 清貴
Adobe PDF(43Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:43/0  |  提交时间:2020/01/18
半導体レーザ及びその製造方法 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: JP2996221B2, 申请日期: 1999-10-29, 公开日期: 1999-12-27
发明人:  鶴岡 清貴
Adobe PDF(178Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:44/0  |  提交时间:2020/01/18
半導体レーザの製造方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: JP1999017273A, 申请日期: 1999-01-22, 公开日期: 1999-01-22
发明人:  鶴岡 清貴;  鈴木 尚文
Adobe PDF(86Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:112/0  |  提交时间:2020/01/18