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基于非化学计量比过渡金属氧化物薄膜的可饱和吸收体及其制备方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN110391583A, 申请日期: 2019-10-29, 公开日期: 2019-10-29
发明人:  张多多;  刘小峰;  邱建荣
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一种基于平面光波导的可饱和吸收体及其制备方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN110350389A, 申请日期: 2019-10-18, 公开日期: 2019-10-18
发明人:  张多多;  刘小峰;  邱建荣
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半导体激光刻蚀机 专利
专利类型: 外观设计, 专利号: CN304188505S, 申请日期: 2017-06-27, 公开日期: 2017-06-27
发明人:  李博宇;  刘立文;  郭坤铎;  马国东;  周志伟;  尹建刚;  曾威;  高云峰
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半导体激光刻蚀机 专利
专利类型: 外观设计, 专利号: CN304188505S, 申请日期: 2017-06-27, 公开日期: 2017-06-27
发明人:  李博宇;  刘立文;  郭坤铎;  马国东;  周志伟;  尹建刚;  曾威;  高云峰
Adobe PDF(282Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:76/0  |  提交时间:2019/12/26
光源装置和投影式显示装置 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN103207509B, 申请日期: 2015-06-24, 公开日期: 2015-06-24
发明人:  山田旭洋;  宇多小路雄;  鲛岛研治;  木田博;  泽中智彦;  柳生伸二
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具分波多工的光传接装置 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN101499872A, 申请日期: 2009-08-05, 公开日期: 2009-08-05
发明人:  刘文铎;  林方正
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具分波多工的光传接装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201159781Y, 申请日期: 2008-12-03, 公开日期: 2008-12-03
发明人:  刘文铎;  林方正
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具分波多工的光传接装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201159781Y, 申请日期: 2008-12-03, 公开日期: 2008-12-03
发明人:  刘文铎;  林方正
Adobe PDF(673Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:11/0  |  提交时间:2019/12/26
硫氰酸汞盐单晶的生长方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN1117532A, 申请日期: 1996-02-28, 公开日期: 1996-02-28
发明人:  袁多荣;  刘明果;  许东;  蒋民华;  侯文博;  方奇
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