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一种均匀光源的辐射特性测试装置及方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN202010620986.8, 申请日期: 2020-06-30, 公开日期: 2020-09-15
发明人:  昌明;  周艳;  刘锴;  李晶;  薛勋;  宋琦;  曹昆;  万伟;  赵怀学
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一种成像系统空间测试装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201922414795.1, 申请日期: 2020-06-26,
发明人:  曹昆;  张洁;  周艳;  李坤;  刘尚阔;  昌明;  薛勋;  焦璐璐
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Sub-aperture optical system testing by using of a modified simulateous fit method 会议论文
AOPC 2020: Optics Ultra Precision Manufacturing and Testing, Shanghai, China, 2020-06-29
作者:  Kewei, E.;  Zhao, Jianke;  Wang, Tao;  Wang, Zhengfeng;  Liu, Kai;  Chang, Ming;  Zhou, Yan
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wavefront testing  sub-aperture stitching  large aperture optical system  simultaneous fit