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基底的晶向和氧化层厚度对坡莫合金薄膜的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2021, 卷号: 41, 期号: 10, 页码: 941-945
作者:  冯润东;  张文伟
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各向异性磁电阻  NiFe薄膜  基底  磁控溅射  X射线衍射  
一种提高各向异性磁电阻磁阻率的制备方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN202010651681.3, 申请日期: 2021-10-15, 公开日期: 2020-11-27
发明人:  冯润东;  张文伟
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磁控溅射制备各向异性磁电阻的工艺研究 学位论文
, 北京: 中国科学院大学, 2021
作者:  冯润东
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各向异性磁阻  磁控溅射  传感器