| 基底的晶向和氧化层厚度对坡莫合金薄膜的影响 | |
| 其他题名 | The Effect of Substrate Orientation and Oxide Layer Thickness on Permalloy Film |
| 冯润东1,2; 张文伟1,2 | |
| 作者部门 | 瞬态光学研究室 |
| 2021-10-15 | |
| 发表期刊 | 真空科学与技术学报
 |
| ISSN | 1672-7126 |
| 卷号 | 41期号:10页码:941-945 |
| 产权排序 | 1 |
| 摘要 | 利用磁控溅射的方法,在不同规格的硅片上制备相同的NiFe薄膜,主要研究不同晶向的硅片对薄膜磁阻率的影响,以及(100)晶向硅片不同氧化层厚度对薄膜的影响。通过测试磁阻率、方阻,再综合X射线衍射分析,得到以下结论:由于(111)晶向基底与NiFe主峰的晶向相同,对NiFe薄膜有诱导作用,因此溅射薄膜的晶粒大,内部缺陷少,内部质点排列规则,且NiFe(111)含量高,减弱了载流子与声子、载流子与缺陷的散射作用,降低了方阻,从而增大了磁阻率;在退火处理后,磁阻率出现明显增幅,且仍高于(100)晶向基片上NiFe薄膜的磁阻率。在(100)晶向基底上制备的NiFe薄膜,氧化层厚度对其薄膜质量影响不大。 |
| 关键词 | 各向异性磁电阻 NiFe薄膜 基底 磁控溅射 X射线衍射 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:7115968 |
| 引用统计 | |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95737 |
| 专题 | 瞬态光学研究室 |
| 通讯作者 | 冯润东 |
| 作者单位 | 1.中国科学院大学 2.中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 第一作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 通讯作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯润东,张文伟. 基底的晶向和氧化层厚度对坡莫合金薄膜的影响[J]. 真空科学与技术学报,2021,41(10):941-945. |
| APA | 冯润东,&张文伟.(2021).基底的晶向和氧化层厚度对坡莫合金薄膜的影响.真空科学与技术学报,41(10),941-945. |
| MLA | 冯润东,et al."基底的晶向和氧化层厚度对坡莫合金薄膜的影响".真空科学与技术学报 41.10(2021):941-945. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 基底的晶向和氧化层厚度对坡莫合金薄膜的影（962KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | |
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [冯润东]的文章 |
| [张文伟]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [冯润东]的文章 |
| [张文伟]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [冯润东]的文章 |
| [张文伟]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论