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利用二次曝光技术制备多波长硅基混合激光器阵列的方法 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN103812001B, 申请日期: 2017-01-11, 公开日期: 2017-01-11
发明人:  李艳平;  陶利;  高智威;  冉广照
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