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一种产生亚纳秒激光脉冲的装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN206864862U, 申请日期: 2018-01-09, 公开日期: 2018-01-09
发明人:  朱炳梅;  蔡岳;  张帆;  蔡文俊
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Experimental study of the damage of silicon photoelectric detector materials induced by repetitively-pulsed femtosecond laser 会议论文
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 2013
作者:  Cai Yue;  Ma Zhi-Liang;  Zhang Zhen;  Cheng Guang-Hua;  Ye Xi-Sheng;  Cheng De-Yan;  Hui Y(会议)
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