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一种高功率激光熔覆头 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201911251730.8, 申请日期: 2019-12-09, 公开日期: 2020-04-21
发明人:  张普;  孙玉博;  杨吴昊
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半导体激光器光束匀化系统的光学设计 期刊论文
红外与激光工程, 2019, 卷号: 48, 期号: 12
作者:  孙玉博;  熊玲玲;  张普;  王明培;  刘兴胜
Adobe PDF(2002Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：393/1  |  提交时间：2020/03/24
光束匀化  半导体激光器  微透镜阵列  光学设计  激光光学