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Theoretical and experimental investigation of secondary electron emission characteristics of MgO coating produced by atomic layer deposition 期刊论文
Ceramics International, 2020, 卷号: 46, 期号: 6, 页码: 8352-8357
作者:  Junjiang Guo;  Dan Wang;  Kaile Wen;  Yantao Xu;  Xiangping Zhu;  Lutao Liu;  Weiwei Cao;  Jinhai Si;  Min Lu;  Haitao Guo
Adobe PDF(1565Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：258/6  |  提交时间：2020/01/07
MgO coating  Secondary electron emission  Atomic layer deposition (ALD)  Microchannel plate (MCP)  
Secondary electron emission characteristics of Al2O3 coatings prepared by atomic layer deposition 期刊论文
AIP Advances, 2019, 卷号: 9, 期号: 9
作者:  Guo, Junjiang;  Wang, Dan;  Xu, Yantao;  Zhu, Xiangping;  Wen, Kaile;  Miao, Guanghui;  Cao, Weiwei;  Si, JinHai;  Lu, Min;  Guo, Haitao
Adobe PDF(3047Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：368/5  |  提交时间：2019/09/30
一种高精度真空高温测量装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201822197549.0, 申请日期: 2019-08-27, 公开日期: 2019-08-27
发明人:  李燕;  朱香平;  张文松
Adobe PDF(369Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：145/0  |  提交时间：2019/12/14
原子层沉积制备W掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN108588679A, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1359Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：146/0  |  提交时间：2019/08/30
原子层沉积制备Mo掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN108588680A, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1206Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：123/0  |  提交时间：2019/08/27
原子层沉积制备W掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201810489471.1, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1357Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：159/0  |  提交时间：2018/12/29
原子层沉积制备Mo掺杂Al2O3高阻薄膜的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201810489472.6, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
发明人:  朱香平;  邹永星;  赵卫;  郭海涛;  陆敏;  许彦涛;  张文松
Adobe PDF(1203Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：242/0  |  提交时间：2018/12/29