OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
一种激光外延结构及制作方法
其他题名一种激光外延结构及制作方法
田宇; 韩效亚; 吴真龙; 杜石磊
2019-03-29
专利权人扬州乾照光电有限公司
公开日期2019-03-29
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本申请提供了一种激光外延结构及制作方法,该激光外延结构中由于Al0.98Ga0.02As层与其相连的DBR反射镜层有较高的Al组分,在氧化过程中,存在一定程度的氧化,因此通过第一GaAs层和第二GaAs层使其无法被氧化,同时使界面更加清晰,氧化更均匀,降低了由于氧化不均匀对应力的影响,进而提高外延结构的特性。并且,通过加入第一AlyGa1‑yAs层和第二AlyGa1‑yAs层,0.6<y<0.98,不包括端点值,使其在三叉型氧化,在氧化的过程中形成三个倒角,更有利于减缓氧化速率,进而降低对其他DBR反射镜层的氧化。
其他摘要本申请提供了一种激光外延结构及制作方法,该激光外延结构中由于Al0.98Ga0.02As层与其相连的DBR反射镜层有较高的Al组分,在氧化过程中,存在一定程度的氧化,因此通过第一GaAs层和第二GaAs层使其无法被氧化,同时使界面更加清晰,氧化更均匀,降低了由于氧化不均匀对应力的影响,进而提高外延结构的特性。并且,通过加入第一AlyGa1‑yAs层和第二AlyGa1‑yAs层,0.6<y<0.98,不包括端点值,使其在三叉型氧化,在氧化的过程中形成三个倒角,更有利于减缓氧化速率,进而降低对其他DBR反射镜层的氧化。
申请日期2018-11-21
专利号CN109546530A
专利状态申请中
申请号CN201811390740.5
公开(公告)号CN109546530A
IPC 分类号H01S5/183 | H01S5/343
专利代理人王宝筠
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92362
专题半导体激光器专利数据库
作者单位扬州乾照光电有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
田宇,韩效亚,吴真龙,等. 一种激光外延结构及制作方法. CN109546530A[P]. 2019-03-29.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN109546530A.PDF(551KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[田宇]的文章
[韩效亚]的文章
[吴真龙]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[田宇]的文章
[韩效亚]的文章
[吴真龙]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[田宇]的文章
[韩效亚]的文章
[吴真龙]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。