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以原位垂直超晶格为模板定位生长量子线或点的方法
其他题名以原位垂直超晶格为模板定位生长量子线或点的方法
王元立; 吴巨; 金鹏; 叶小玲; 张春玲; 黄秀颀; 陈涌海; 王占国
2007-01-10
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2007-01-10
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种以原位垂直超晶格为模板定位生长量子线或点的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:在该衬底的邻位面上用分子束外延工艺生长铟铝砷或铟镓砷材料的缓冲层;步骤3:生长完缓冲层后在砷压保护下停顿2~5分钟;步骤4:然后进行砷化铟量子线或点层的生长,完成以原位形成的垂直超晶格为模板定位生长量子线或点。
其他摘要一种以原位垂直超晶格为模板定位生长量子线或点的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:在该衬底的邻位面上用分子束外延工艺生长铟铝砷或铟镓砷材料的缓冲层;步骤3:生长完缓冲层后在砷压保护下停顿2~5分钟;步骤4:然后进行砷化铟量子线或点层的生长,完成以原位形成的垂直超晶格为模板定位生长量子线或点。
申请日期2005-07-07
专利号CN1892986A
专利状态失效
申请号CN200510012105.X
公开(公告)号CN1892986A
IPC 分类号H01L21/20 | H01L33/00 | H01S5/30
专利代理人汤保平
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90391
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王元立,吴巨,金鹏,等. 以原位垂直超晶格为模板定位生长量子线或点的方法. CN1892986A[P]. 2007-01-10.
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