基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置

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	基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置
其他题名	基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置
	丁晨良; 魏劲松; 周奇军
	2017-11-14
专利权人	中国科学院上海光学精密机械研究所
公开日期	2017-11-14
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	一种基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置，包括第一激光器、第二激光器、第一1/2波片、第二1/2波片、第一扩束镜、第二扩束镜、第一分光镜、第二分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、聚焦透镜、三棱镜，第一探测器和第二探测器，本发明将两束不同波长的光耦合到同一束光中，通过聚焦透镜产生轴向色差，聚焦于轴向不同位置，即光刻材料不同厚度处，实现轴向双焦点同时光刻。本发明可实现双光束同时存储，将存储的速度增加一倍，也将存储信息提高一倍，为多层光存储技术的推广运用提供基础。本发明还具有实时读取刻写信号系统，确保刻写的准确度。
其他摘要	一种基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置，包括第一激光器、第二激光器、第一1/2波片、第二1/2波片、第一扩束镜、第二扩束镜、第一分光镜、第二分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、聚焦透镜、三棱镜，第一探测器和第二探测器，本发明将两束不同波长的光耦合到同一束光中，通过聚焦透镜产生轴向色差，聚焦于轴向不同位置，即光刻材料不同厚度处，实现轴向双焦点同时光刻。本发明可实现双光束同时存储，将存储的速度增加一倍，也将存储信息提高一倍，为多层光存储技术的推广运用提供基础。本发明还具有实时读取刻写信号系统，确保刻写的准确度。
授权日期	2017-11-14
申请日期	2015-09-29
专利号	CN105355217B
专利状态	授权
申请号	CN201510638597.7
公开（公告）号	CN105355217B
IPC 分类号	G11B7/004 \| G02B27/09 \| G02B27/10
专利代理人	张泽纯 \| 张宁展
代理机构	上海新天专利代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39613
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	丁晨良,魏劲松,周奇军. 基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置. CN105355217B[P]. 2017-11-14.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN105355217B.PDF（101KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文