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基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN105355217B, 申请日期: 2017-11-14, 公开日期: 2017-11-14
发明人:  丁晨良;  魏劲松;  周奇军
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