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可用于制作光子晶体掩膜层的双光束曝光系统 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN202771155U, 申请日期: 2013-03-06, 公开日期: 2013-03-06
发明人:  丁海生;  李东昇;  马新刚;  江忠永;  张昊翔;  王洋;  李超;  黄捷;  黄敬
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