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可用于制作光子晶体掩膜层的双光束曝光系统及方法 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN102707584B, 申请日期: 2014-03-12, 公开日期: 2014-03-12
发明人:  丁海生;  李东昇;  马新刚;  江忠永;  张昊翔;  王洋;  李超;  黄捷;  黄敬
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