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一种基于双曝光工艺的DFB激光器和制作方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN107453204A, 申请日期: 2017-12-08, 公开日期: 2017-12-08
发明人:  胡忞远;  杨帆;  陈如山;  方娜;  刘巍;  金灿;  阳红涛;  刘应军;  王任凡
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