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Bond and release layer transfer process 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: US10164144, 申请日期: 2018-12-25, 公开日期: 2018-12-25
发明人:  HENLEY, FRANCOIS J.;  KANG, SIEN;  ZHONG, MINGYU;  LI, MINGHANG
Adobe PDF(3042Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：119/0  |  提交时间：2019/12/24
Method of producing semiconductor optical device 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: US7772023, 申请日期: 2010-08-10, 公开日期: 2010-08-10
发明人:  HIRATSUKA, KENJI
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"information recording medium and disk apparatus using the medium" 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: IN2211DEL2008A, 申请日期: 2009-04-17, 公开日期: 2009-04-17
发明人:  UMEZAWA KAZUYO;  MORITA SEIJI;  TAKAZAWA KOJI;  NAKAMURA NAOMASA;  MORISHITA NAOKI
Adobe PDF(368Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：64/0  |  提交时间：2019/12/31
Light emitting device package and method for manufacturing the same 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: EP1724848A2, 申请日期: 2006-11-22, 公开日期: 2006-11-22
发明人:  KIM, GEUN HO;  LEE, SEUNG YEOB, 402, JEONGSEOK GREEN VILLA
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Method for fabricating semiconductor device 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: US6887770, 申请日期: 2005-05-03, 公开日期: 2005-05-03
发明人:  UEDA, TETSUZO;  ISHIDA, MASAHIRO;  YURI, MASAAKI
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Nitride semiconductor device comprising bonded substrate and fabrication method of the same 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: EP1385215A2, 申请日期: 2004-01-28, 公开日期: 2004-01-28
发明人:  NAGAHAMA, SHINICHI;  SANO, MASAHIKO;  YANAMOTO, TOMOYA;  SAKAMOTO, KEIJI;  YAMAMOTO, MASASHI;  MORITA, DAISUKE
Adobe PDF(1090Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：70/0  |  提交时间：2019/12/30
Nitride semiconductor device comprising bonded substrate and fabrication method of the same 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: EP1385215A2, 申请日期: 2004-01-28, 公开日期: 2004-01-28
发明人:  NAGAHAMA, SHINICHI;  SANO, MASAHIKO;  YANAMOTO, TOMOYA;  SAKAMOTO, KEIJI;  YAMAMOTO, MASASHI;  MORITA, DAISUKE
Adobe PDF(1090Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：67/0  |  提交时间：2019/12/30
Manufacturing method of semiconductor film 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: US6589857, 申请日期: 2003-07-08, 公开日期: 2003-07-08
发明人:  OGAWA, MASAHIRO;  UEDA, DAISUKE;  ISHIDA, MASAHIRO
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Metal casing for semiconductor device having high thermal conductivity and thermal expansion coefficient similar to that of semiconductor and method for manufacturing the same 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: EP1282166A2, 申请日期: 2003-02-05, 公开日期: 2003-02-05
发明人:  TSUJIOKA, MASANORI;  MATSUMURA, JUNZOH
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Horizontal reactor for compound semiconductor growth 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: US6214116, 申请日期: 2001-04-10, 公开日期: 2001-04-10
发明人:  SHIN, HYUN KEEL
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