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一种共孔径双波段成像系统光轴平行性调节系统及方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: CN201911377288.3, 申请日期: 2019-12-27, 公开日期: 2020-05-08
发明人:  王华伟;  张德瑞;  王华;  刘庆;  曲锐;  高波
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具有自适应校正功能的红外成像系统设计 期刊论文
红外与激光工程, 2014, 卷号: 0, 期号: 1, 页码: 61-66
作者:  王华伟;  曹剑中;  马彩文;  张辉;  武登山
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