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Chemical etching mechanisms and crater morphologies pre-irradiated by temporally decreasing pulse trains of femtosecond laser 期刊论文
Applied Surface Science, 2019, 卷号: 469, 页码: 44-49
作者:  Du, Kun;  Jiang, Lan;  Li, Xiaowei;  Zhang, Hao;  Wang, Andong;  Yao, Zhulin;  Pan, Changji;  Wang, Zhi;  Li, Ming;  Grigoropoulos, Costas P.;  Lu, Yongfeng
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一种大功率671nm激光获取方法 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN104518418B, 申请日期: 2017-10-20, 公开日期: 2017-10-20
发明人:  曹强;  潘昌基
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