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一种SCMOS成像装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201922419634.1, 申请日期: 2020-06-26,
发明人:  王华伟;  廖加文;  刘庆;  刘广森;  杨磊
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The investigation of automatic exposure under extreme light 会议论文
INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHOTONICS AND OPTICAL ENGINEERING (ICPOE 2014), Xian, PEOPLES R CHINA, 2014-10-13
作者:  Wang Zefeng;  Yang Lei;  Huang Jijiang;  Zhangzhi;  Xie Qingsheng;  Chen Yaohong;  Liao Jiawen;  Zhang Zhaohui;  Zhang Haifeng;  Zhang Kaisheng
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