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二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)
其他题名Preparation Technology and Application of Vanadium Dioxide Thin Films(Invited)
石倩倩1,2; 王江1; 程光华1
作者部门瞬态光学研究室
2022-10
发表期刊光子学报
ISSN1004-4213
卷号51期号:10
产权排序1
摘要

二氧化钒具有从金属相到绝缘体相发生可逆相变的特性,在68℃,分子结构从单斜结构转换成金红石结构,同时伴随着光学、电学和热学性质的快速突变,使得二氧化钒被广泛应用于热光调控、光学防护、红外伪装、离子电池和化学传感等领域。本文总结了二氧化钒薄膜新颖的制备技术、研究现状以及各种技术的优缺点,分析了应力、掺杂、缺陷等因素对二氧化钒相变特性的显著影响,归纳了二氧化钒的相变机理和支持相关相变机理的证据,列举了二氧化钒在不同热门领域中的应用,并对二氧化钒的发展方向和应用前景进行了总结和展望。

关键词二氧化钒 制备技术 薄膜 金属-绝缘体相变 晶型结构
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:7351350
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/96380
专题瞬态光学研究室
通讯作者程光华
作者单位1.西北工业大学光电与智能研究院
2.中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
石倩倩,王江,程光华. 二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)[J]. 光子学报,2022,51(10).
APA 石倩倩,王江,&程光华.(2022).二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀).光子学报,51(10).
MLA 石倩倩,et al."二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)".光子学报 51.10(2022).
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