| 二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀) | |
| 其他题名 | Preparation Technology and Application of Vanadium Dioxide Thin Films(Invited) |
石倩倩1,2; 王江1; 程光华1
| |
| 作者部门 | 瞬态光学研究室 |
| 2022-10 | |
| 发表期刊 | 光子学报
 |
| ISSN | 1004-4213 |
| 卷号 | 51期号:10 |
| 产权排序 | 1 |
| 摘要 | 二氧化钒具有从金属相到绝缘体相发生可逆相变的特性，在68℃，分子结构从单斜结构转换成金红石结构，同时伴随着光学、电学和热学性质的快速突变，使得二氧化钒被广泛应用于热光调控、光学防护、红外伪装、离子电池和化学传感等领域。本文总结了二氧化钒薄膜新颖的制备技术、研究现状以及各种技术的优缺点，分析了应力、掺杂、缺陷等因素对二氧化钒相变特性的显著影响，归纳了二氧化钒的相变机理和支持相关相变机理的证据，列举了二氧化钒在不同热门领域中的应用，并对二氧化钒的发展方向和应用前景进行了总结和展望。 |
| 关键词 | 二氧化钒 制备技术 薄膜 金属-绝缘体相变 晶型结构 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:7351350 |
| 引用统计 | |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/96380 |
| 专题 | 瞬态光学研究室 |
| 通讯作者 | 程光华 |
| 作者单位 | 1.西北工业大学光电与智能研究院 2.中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 第一作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 石倩倩,王江,程光华. 二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)[J]. 光子学报,2022,51(10). |
| APA | 石倩倩,王江,&程光华.(2022).二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀).光子学报,51(10). |
| MLA | 石倩倩,et al."二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)".光子学报 51.10(2022). |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展（特邀）（2552KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | |
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