低温808 nm高效率半导体激光器 | |
其他题名 | Low Temperature 808 nm High Efficiency Semiconductor Laser |
吴顺华1,2; 刘国军2,3; 王贞福4![]() | |
作者部门 | 瞬态光学研究室 |
2022-05 | |
发表期刊 | 发光学报
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ISSN | 1000-7032 |
卷号 | 43期号:5 |
产权排序 | 4 |
摘要 | 为了提高低温工作环境下808 nm半导体激光器的输出特性,深入研究了电光转换效率的温度特性。结合载流子泄漏抑制和器件串联电阻的优化考虑,从理论上深入分析了有源区量子阱内的载流子限制现象,提出针对低温工作环境下的势垒高度及相应的量子阱结构设计方法,包括势垒层的材料组分、厚度等重要参数的优化,极大地改善了器件在低温工作环境下的性能。采用优化后的外延结构,制备了腔长2 mm的半导体激光巴条。在工作温度-50℃、注入电流为600 A时,巴条输出功率达到799 W,电光转换效率为71%,斜率效率为1.34 W/A;注入电流为400 A时,器件达到最高电光转换效率73.5%,此时的载流子限制效率约为99%,串联电阻为0.43 mΩ;在-60~60℃温度范围内,中心波长随温度的漂移系数为0.248 nm/℃。 |
关键词 | 半导体激光器 载流子泄漏 低温 高效率 温度效应 |
DOI | 10.37188/CJL.20220025 |
收录类别 | EI ; CSCD |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:7191176 |
EI入藏号 | 20222112148900 |
引用统计 | |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95891 |
专题 | 瞬态光学研究室 |
通讯作者 | 刘国军; 李特 |
作者单位 | 1.长春理工大学光电工程学院 2.长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 3.海南师范大学物理与电子工程学院海南省激光技术与光电功能材料重点实验室 4.中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室 |
通讯作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴顺华,刘国军,王贞福,等. 低温808 nm高效率半导体激光器[J]. 发光学报,2022,43(5). |
APA | 吴顺华,刘国军,王贞福,&李特.(2022).低温808 nm高效率半导体激光器.发光学报,43(5). |
MLA | 吴顺华,et al."低温808 nm高效率半导体激光器".发光学报 43.5(2022). |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
低温808nm高效率半导体激光器.pdf(2818KB) | 期刊论文 | 作者接受稿 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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