| 一种高精度激光雕刻方法 |
| 李明; 安永刚; 田新锋
|
| 2020-12-30
|
| 专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
|
| 公开日期 | 2021-05-07
|
| 授权国家 | 中国
|
| 专利类型 | 发明专利
|
| 产权排序 | 1
|
| 摘要 | 本发明涉及一种激光雕刻方法，尤其为一种高精度激光雕刻方法。解决传统激光雕刻过程存在的加工深度不均匀及激光器出光、关光响应时间对零件尺寸的影响问题。本发明在路径规划时预先考虑到载物平台的加减速时间以及激光器、IO模块的响应时间，在原有的路径上增加了减速轨迹以及出、关光响应轨迹，因此根据更新后的路径加工出的产品深度均匀性好，不存在由于脉冲重叠率太高而导致起点和终点加工深度较深、加工质量差的问题，同时考虑到激光器和IO模块的响应时间提高了尺寸加工精度。该方法特别适用于不规则图形雕刻工艺。 |
| 申请日期 | 2020-12-30
|
| 专利号 | CN202011643176.0
|
| 语种 | 中文
|
| 专利状态 | 申请中
|
| 公开（公告）号 | CN112756797A
|
| IPC 分类号 | B23K26/362
; B23K26/70
|
| 文献类型 | 专利
|
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95537
|
| 专题 | 瞬态光学研究室
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
李明,安永刚,田新锋. 一种高精度激光雕刻方法. CN202011643176.0[P]. 2020-12-30.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论