Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 残余应力对介质高反膜面型影响的研究 | |
| 李阳1; 徐均琪1; 刘政2; 苏俊宏1 | |
| 作者部门 | 先进光学元件试制中心 |
| 2021-05-15 | |
| 发表期刊 | 真空科学与技术学报
 |
| ISSN | 1672-7126 |
| 卷号 | 41期号:05页码:484-490 |
| 产权排序 | 2 |
| 摘要 | 使用有限元分析方法对介质激光高反镜镀膜前后的元件面型变化及膜层应力分布进行研究,仿真结果表明:残余应力和热应力都呈层状分布,基底应力从下到镀膜面由拉应力变为压应力,应力引起面型变化呈环状分布。对于熔石英基底,当厚径比小于1∶20时,重力引起的变形不可忽略。当熔石英(φ=200 mm,d=2 mm)表面为由重力引起的曲面且膜系为G│(HL)~(10)H│A的TiO_2-SiO_2组合时,镀膜元件面型变化减小1.45μm,修正了理想平面镀膜仿真的不足,为大口径微变形镀膜元件的制备提供指导。 |
| 关键词 | 薄膜应力 大口径 ERT 面型 |
| 收录类别 | 中文核心期刊要目总览 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95094 |
| 专题 | 先进光学元件试制中心 |
| 通讯作者 | 李阳 |
| 作者单位 | 1.西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 2.西安光学精密机械研究所先进光学制造技术联合实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李阳,徐均琪,刘政,等. 残余应力对介质高反膜面型影响的研究[J]. 真空科学与技术学报,2021,41(05):484-490. |
| APA | 李阳,徐均琪,刘政,&苏俊宏.(2021).残余应力对介质高反膜面型影响的研究.真空科学与技术学报,41(05),484-490. |
| MLA | 李阳,et al."残余应力对介质高反膜面型影响的研究".真空科学与技术学报 41.05(2021):484-490. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 残余应力对介质高反膜面型影响的研究.pd（2525KB） | 期刊论文 | 出版稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 请求全文 | |
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