| 一种高抑制比光陷阱 |
| 陈钦芳; 薛要克; 刘阳 ; 林上民; 刘美莹 ; 马占鹏
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| 2019-12-24
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专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
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公开日期 | 2020-04-17
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授权国家 | 中国
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专利类型 | 发明专利
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产权排序 | 1
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摘要 | 本发明提供了一种高抑制比光陷阱,解决现有光陷阱对随机入射光和平行光无针对性,入射光难以满足高精度的杂散光测试需求,成本较高的问题。该光陷阱包括底面、平行设置的两个等腰直角三角形侧面、形状相同的第一反射面和第二反射面;底面、第一反射面、第二反射面、等腰直角三角形侧面内壁材均为黑色玻璃;底面、第一反射面、第二反射面依次尾首连接形成三角柱框架;两个等腰直角三角形侧面分别位于三角柱框架两侧开口处,形成密封腔室;底面上设有通光孔,该通光孔靠近第一反射面;经通光孔进入的平行光依次经第一反射面反射、第二反射面反射至底面,经底面反射回的光线再依次经第二反射面反射、第一反射面反射后从通光孔出射。 |
申请日期 | 2019-12-24
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专利号 | CN201911350740.7
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语种 | 中文
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专利状态 | 申请中
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申请号 | CN201911350740.7
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公开(公告)号 | CN111025614A
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IPC 分类号 | G02B17/06
; G02B1/00
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文献类型 | 专利
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条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94010
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专题 | 空间光学技术研究室
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
陈钦芳,薛要克,刘阳,等. 一种高抑制比光陷阱. CN201911350740.7[P]. 2019-12-24.
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