Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 圖形曝光方法及裝置 | |
| 其他题名 | 圖形曝光方法及裝置 |
| 押田良忠; 內藤芳達; 鈴木光弘; 山口剛; 丸山重信 | |
| 2007-06-29 | |
| 专利权人 | 日立比亞機械股份有限公司 |
| 公开日期 | 2007-06-29 |
| 授权国家 | 中国香港 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为405nm的激光(1a)的蓝紫半导体激光器(12A)和出射波长为375nm的激光(1b)的紫外线半导体激光器(12B)，使激光(1a)、(1b)的光轴同轴，照射到基板(8)上。这时，用激光(1a)、(1b)多次照射基板(8)上的同一地点，使激光(1a)、(1b)的强度偏差平均化。 |
| 其他摘要 | 本发明的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为405nm的激光(1a)的蓝紫半导体激光器(12A)和出射波长为375nm的激光(1b)的紫外线半导体激光器(12B)，使激光(1a)、(1b)的光轴同轴，照射到基板(8)上。这时，用激光(1a)、(1b)多次照射基板(8)上的同一地点，使激光(1a)、(1b)的强度偏差平均化。 |
| 申请日期 | 2007-03-23 |
| 专利号 | HK1097608A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | HK07103174 |
| 公开（公告）号 | HK1097608A |
| IPC 分类号 | G03F | H01L |
| 专利代理人 | - |
| 代理机构 | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92515 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日立比亞機械股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 押田良忠,內藤芳達,鈴木光弘,等. 圖形曝光方法及裝置. HK1097608A[P]. 2007-06-29. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN1837962A.PDF（935KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [押田良忠]的文章 |
| [內藤芳達]的文章 |
| [鈴木光弘]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [押田良忠]的文章 |
| [內藤芳達]的文章 |
| [鈴木光弘]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [押田良忠]的文章 |
| [內藤芳達]的文章 |
| [鈴木光弘]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论