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DFB激光器外延结构及其制备方法
其他题名DFB激光器外延结构及其制备方法
单智发; 张永
2019-03-22
专利权人全磊光电股份有限公司
公开日期2019-03-22
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及一种DFB激光器外延结构,其包括其包括自下而上依次层叠设置的衬底、光栅层、缓冲层、限制层、下波导层、量子阱、上波导层、上限制层、过渡层、腐蚀阻挡层、包层、势垒渐变层和欧姆接触层。本发明还涉及所述DFB激光器外延结构的制备方法。本发明提供的DFB激光器外延结构将光栅设置于N型层,由于N型半导体材料中,传输电流的载流子是电子,其具有比P型半导体载流子空穴更长的载流子寿命和输运长度,可以减小寄生电阻,提高DFB激光器的调制速率。
其他摘要本发明涉及一种DFB激光器外延结构,其包括其包括自下而上依次层叠设置的衬底、光栅层、缓冲层、限制层、下波导层、量子阱、上波导层、上限制层、过渡层、腐蚀阻挡层、包层、势垒渐变层和欧姆接触层。本发明还涉及所述DFB激光器外延结构的制备方法。本发明提供的DFB激光器外延结构将光栅设置于N型层,由于N型半导体材料中,传输电流的载流子是电子,其具有比P型半导体载流子空穴更长的载流子寿命和输运长度,可以减小寄生电阻,提高DFB激光器的调制速率。
申请日期2019-01-15
专利号CN109510063A
专利状态申请中
申请号CN201910036650.4
公开(公告)号CN109510063A
IPC 分类号H01S5/125
专利代理人徐东峰
代理机构厦门原创专利事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92360
专题半导体激光器专利数据库
作者单位全磊光电股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
单智发,张永. DFB激光器外延结构及其制备方法. CN109510063A[P]. 2019-03-22.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN109510063A.PDF(393KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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