Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 金属电极的沉积方法 | |
| 其他题名 | 金属电极的沉积方法 |
| 逯心红; 郝润豹; 尚飞 | |
| 2018-11-27 | |
| 专利权人 | 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 |
| 公开日期 | 2018-11-27 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 本发明公开了一种金属电极的沉积方法，该方法包括：在晶圆表面蒸涂底膜；在所述晶圆的表面涂覆双层光刻胶层，所述双层光刻胶层覆盖所述底膜；对双层光刻胶层进行曝光、显影，以显现出特定沉积图形；依次在所述沉积图形上进行第一金属和第二金属沉积；将第三金属以不同速率分次在所述第二金属层上进行沉积；去除所述晶圆表面的光刻胶层，以在所述晶圆表面形成金属电极图形。本发明通过不同沉积速率搭配沉积的方式，可以较好地维持光刻胶的胶型，防止长时间高能量原子轰击光刻胶，导致光刻胶变形塌陷，解决金属剥离困难的问题。 |
| 其他摘要 | 本发明公开了一种金属电极的沉积方法，该方法包括：在晶圆表面蒸涂底膜；在所述晶圆的表面涂覆双层光刻胶层，所述双层光刻胶层覆盖所述底膜；对双层光刻胶层进行曝光、显影，以显现出特定沉积图形；依次在所述沉积图形上进行第一金属和第二金属沉积；将第三金属以不同速率分次在所述第二金属层上进行沉积；去除所述晶圆表面的光刻胶层，以在所述晶圆表面形成金属电极图形。本发明通过不同沉积速率搭配沉积的方式，可以较好地维持光刻胶的胶型，防止长时间高能量原子轰击光刻胶，导致光刻胶变形塌陷，解决金属剥离困难的问题。 |
| 申请日期 | 2018-06-06 |
| 专利号 | CN108899756A |
| 专利状态 | 申请中 |
| 申请号 | CN201810575540.0 |
| 公开（公告）号 | CN108899756A |
| IPC 分类号 | H01S5/028 | H01S5/042 |
| 专利代理人 | 林祥 |
| 代理机构 | 北京博思佳知识产权代理有限公司 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92278 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 逯心红,郝润豹,尚飞. 金属电极的沉积方法. CN108899756A[P]. 2018-11-27. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN108899756A.PDF（457KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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