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一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法
其他题名一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法
季振国
2003-09-17
专利权人浙江大学
公开日期2003-09-17
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开的在硅衬底上制备硅基发光薄膜的方法,包括在经过清洗的硅片衬底上热氧化生长一层氧化硅薄膜,再在其上沉积一层掺有一种或多种金属元素如锰、钛、铈、铽、铱、钇、铅、镍、钴、钙、铒、铕、铪、锶、镧、镝等的锌或含锌化合物薄膜,最后通过高温热处理使锌或含锌化合物薄膜与氧化硅膜发生反应形成晶体结构的发光硅酸锌薄膜,其发光波长与掺杂元素的种类有关。本发明提出了制备高效、稳定的硅基发光薄膜的方法。它简单、易行,而且与硅集成电路器件工艺兼容。
其他摘要本发明公开的在硅衬底上制备硅基发光薄膜的方法,包括在经过清洗的硅片衬底上热氧化生长一层氧化硅薄膜,再在其上沉积一层掺有一种或多种金属元素如锰、钛、铈、铽、铱、钇、铅、镍、钴、钙、铒、铕、铪、锶、镧、镝等的锌或含锌化合物薄膜,最后通过高温热处理使锌或含锌化合物薄膜与氧化硅膜发生反应形成晶体结构的发光硅酸锌薄膜,其发光波长与掺杂元素的种类有关。本发明提出了制备高效、稳定的硅基发光薄膜的方法。它简单、易行,而且与硅集成电路器件工艺兼容。
申请日期2003-02-28
专利号CN1442883A
专利状态失效
申请号CN03115635.5
公开(公告)号CN1442883A
IPC 分类号C09K11/08 | H01L21/00 | H01L31/18 | H01S5/00 | H05B33/00
专利代理人韩介梅
代理机构杭州求是专利事务所有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92089
专题半导体激光器专利数据库
作者单位浙江大学
推荐引用方式
GB/T 7714
季振国. 一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法. CN1442883A[P]. 2003-09-17.
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CN1442883A.PDF(174KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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