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GaN基紫外激光器晶圆、激光器芯片及激光器及其制备方法
其他题名GaN基紫外激光器晶圆、激光器芯片及激光器及其制备方法
邢瑶; 赵德刚; 江德生; 刘宗顺; 陈平; 朱建军; 杨静
2017-08-18
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2017-08-18
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种GaN基紫外激光器晶圆,包括叠置于GaN衬底正面上的n型限制层、n型波导层、有源区、u型波导层、p型限制层和p型接触层,其中:在n型波导层和有源区之间还有一n型空穴阻挡层;在u型波导层和p型限制层之间还有一p型电子阻挡层;该GaN基紫外激光器晶圆为脊型结构。以及一种GaN基紫外激光器晶圆的制备方法、通过解理、镀膜形成的激光芯片、通过封装形成的激光器。本发明在u型波导层/n型波导层与限制层/有源区之间插入p型电子阻挡层/n型空穴阻挡层;可在u型波导层与限制层之间/n型波导层和有源区之间形成高的势垒,有效阻止电子/空穴泄漏到有源区以外靠近p/n区的位置;从而可降低GaN基紫外激光器的阈值电流,提高功率和光电转换效率。
其他摘要一种GaN基紫外激光器晶圆,包括叠置于GaN衬底正面上的n型限制层、n型波导层、有源区、u型波导层、p型限制层和p型接触层,其中:在n型波导层和有源区之间还有一n型空穴阻挡层;在u型波导层和p型限制层之间还有一p型电子阻挡层;该GaN基紫外激光器晶圆为脊型结构。以及一种GaN基紫外激光器晶圆的制备方法、通过解理、镀膜形成的激光芯片、通过封装形成的激光器。本发明在u型波导层/n型波导层与限制层/有源区之间插入p型电子阻挡层/n型空穴阻挡层;可在u型波导层与限制层之间/n型波导层和有源区之间形成高的势垒,有效阻止电子/空穴泄漏到有源区以外靠近p/n区的位置;从而可降低GaN基紫外激光器的阈值电流,提高功率和光电转换效率。
申请日期2017-06-20
专利号CN107069433A
专利状态申请中
申请号CN201710472653.3
公开(公告)号CN107069433A
IPC 分类号H01S5/343 | H01S5/34
专利代理人任岩
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91991
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
邢瑶,赵德刚,江德生,等. GaN基紫外激光器晶圆、激光器芯片及激光器及其制备方法. CN107069433A[P]. 2017-08-18.
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