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一种DFB激光器光栅及芯片的制作方法
其他题名一种DFB激光器光栅及芯片的制作方法
王任凡; 刘应军; 阳红涛; 胡忞远; 熊永华
2013-04-17
专利权人武汉电信器件有限公司
公开日期2013-04-17
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种DFB激光器光栅及芯片的制作方法。该DFB激光器光栅制作时光栅层结构为两层P-InP层中间夹一层P-InGaAsP层,先在顶端P-InP层外涂覆光栅用光刻胶,烘干后进行全息曝光,显影,制作成均匀光栅;然后使用HCl、H3PO4和H2O组成的腐蚀液腐蚀掉一层P-InP层;再用H2SO4、H2O2和H2O组成的腐蚀液腐蚀掉P-InGaAsP层;最后除去光刻胶,得到DFB激光器用光栅。通过这种三明治光栅结构设计和InGaAsP/InP两种材料的选择性腐蚀,可获得深度一致的均匀光栅。本发明方法制作成本低,光栅一致性好,DFB激光器成品率高,利于大规模生产的需要。
其他摘要本发明公开了一种DFB激光器光栅及芯片的制作方法。该DFB激光器光栅制作时光栅层结构为两层P-InP层中间夹一层P-InGaAsP层,先在顶端P-InP层外涂覆光栅用光刻胶,烘干后进行全息曝光,显影,制作成均匀光栅;然后使用HCl、H3PO4和H2O组成的腐蚀液腐蚀掉一层P-InP层;再用H2SO4、H2O2和H2O组成的腐蚀液腐蚀掉P-InGaAsP层;最后除去光刻胶,得到DFB激光器用光栅。通过这种三明治光栅结构设计和InGaAsP/InP两种材料的选择性腐蚀,可获得深度一致的均匀光栅。本发明方法制作成本低,光栅一致性好,DFB激光器成品率高,利于大规模生产的需要。
申请日期2013-01-10
专利号CN103050888A
专利状态失效
申请号CN201310008696.8
公开(公告)号CN103050888A
IPC 分类号H01S5/12
专利代理人黄挺
代理机构北京汇泽知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91986
专题半导体激光器专利数据库
作者单位武汉电信器件有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王任凡,刘应军,阳红涛,等. 一种DFB激光器光栅及芯片的制作方法. CN103050888A[P]. 2013-04-17.
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