曝光头及曝光装置和它的应用

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	曝光头及曝光装置和它的应用
其他题名	曝光头及曝光装置和它的应用
	石川弘美; 永野和彦; 冈崎洋二; 藤井武; 山川博充
	2005-08-24
专利权人	富士胶片株式会社
公开日期	2005-08-24
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明的曝光头及曝光装置，对于空间调制元件，将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制，因此所控制的象素部的个数变少，控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度，从而可以实现高速曝光。作为激光装置，通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源，可以获得高亮度、高输出，特别在半导体激光器中十分有效。另外，由于可以减少阵列化的光纤的条数，因此成本低，可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。
其他摘要	本发明的曝光头及曝光装置，对于空间调制元件，将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制，因此所控制的象素部的个数变少，控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度，从而可以实现高速曝光。作为激光装置，通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源，可以获得高亮度、高输出，特别在半导体激光器中十分有效。另外，由于可以减少阵列化的光纤的条数，因此成本低，可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。
申请日期	2003-04-09
专利号	CN1659479A
专利状态	失效
申请号	CN03813199
公开（公告）号	CN1659479A
IPC 分类号	B23K26/06 \| B29C67/00 \| B41J2/447 \| B41J2/465 \| B41J2/47 \| D06L3/04 \| D06M10/00 \| G02B26/08 \| G03F7/20 \| H04N1/12 \| H04N1/191 \| H05K3/00 \| H04N1/036
专利代理人	朱丹
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91846
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	富士胶片株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	石川弘美,永野和彦,冈崎洋二,等. 曝光头及曝光装置和它的应用. CN1659479A[P]. 2005-08-24.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN1659479A.PDF（5552KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文