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偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法
其他题名偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法
关宝璐; 郭霞; 史国柱; 李硕; 王强; 周弘毅; 陈树华; 苏治平
2012-07-11
专利权人北京工业大学
公开日期2012-07-11
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提供了一种偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法,采用半导体微纳加工方法制备有效折射率各向异性的亚波长光栅,将其刻蚀在可调谐垂直腔面发射激光器的谐振腔内,内腔亚波长光栅可以等效为一定厚度的负单轴晶体,利用“形式双折射”效应,TE、TM偏振模式在谐振腔分别满足不同的F-P标具方程,两偏振模式的谐振波长分离,设计TE偏振模式波长在中心波长处,该模式比TM偏振模式需更低的阈值增益,优先激射,TM偏振模式将被抑制,从而使偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器在波长连续调谐过程中具有波长偏振稳定输出的功能。
其他摘要本发明提供了一种偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法,采用半导体微纳加工方法制备有效折射率各向异性的亚波长光栅,将其刻蚀在可调谐垂直腔面发射激光器的谐振腔内,内腔亚波长光栅可以等效为一定厚度的负单轴晶体,利用“形式双折射”效应,TE、TM偏振模式在谐振腔分别满足不同的F-P标具方程,两偏振模式的谐振波长分离,设计TE偏振模式波长在中心波长处,该模式比TM偏振模式需更低的阈值增益,优先激射,TM偏振模式将被抑制,从而使偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器在波长连续调谐过程中具有波长偏振稳定输出的功能。
申请日期2012-01-20
专利号CN102570302A
专利状态授权
申请号CN201210019209.3
公开(公告)号CN102570302A
IPC 分类号H01S5/20 | H01S5/183
专利代理人翟国明
代理机构北京汇信合知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91551
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
关宝璐,郭霞,史国柱,等. 偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法. CN102570302A[P]. 2012-07-11.
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