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复合波激光光源及曝光装置
其他题名复合波激光光源及曝光装置
冈崎洋二; 永野和彦; 蔵町照彦
2004-08-25
专利权人亚得科技工程有限公司
公开日期2004-08-25
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及复合波激光光源及曝光装置。由包括准直透镜(11~17)及聚光透镜(20)的聚光光学系统将从GaN系列半导体激光器(LD1~7)射出的激光束(B1~7)聚光后耦合到多模光纤(30)而进行复合。作为半导体激光器,采用芯片状态的单谐振腔氮化物系化合物半导体激光器(LD1~7),将其隔着副基座(9)安装在Cu或Cu合金制散热基座(10)上,副基座(9),采用热膨胀系数为3.5~6.0×10-6/℃的材料并按200~400μm的厚度形成,半导体激光器(LD1~7),相对于该副基座,在两者的结合面内分割为多个AuSn共晶焊料层及金属化层,并以结朝下结构分割焊接。
其他摘要本发明涉及复合波激光光源及曝光装置。由包括准直透镜(11~17)及聚光透镜(20)的聚光光学系统将从GaN系列半导体激光器(LD1~7)射出的激光束(B1~7)聚光后耦合到多模光纤(30)而进行复合。作为半导体激光器,采用芯片状态的单谐振腔氮化物系化合物半导体激光器(LD1~7),将其隔着副基座(9)安装在Cu或Cu合金制散热基座(10)上,副基座(9),采用热膨胀系数为3.5~6.0×10-6/℃的材料并按200~400μm的厚度形成,半导体激光器(LD1~7),相对于该副基座,在两者的结合面内分割为多个AuSn共晶焊料层及金属化层,并以结朝下结构分割焊接。
申请日期2003-07-10
专利号CN1523450A
专利状态失效
申请号CN03147430.6
公开(公告)号CN1523450A
IPC 分类号G02B26/10 | G02B27/10 | H01S3/10 | H01S5/02 | H01S5/022 | H01S5/024 | H01S5/323 | H01S5/40 | H04N1/036 | G03F7/22 | H01S5/00 | G02B3/08
专利代理人李香兰
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91541
专题半导体激光器专利数据库
作者单位亚得科技工程有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
冈崎洋二,永野和彦,蔵町照彦. 复合波激光光源及曝光装置. CN1523450A[P]. 2004-08-25.
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