OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
稀土掺杂硫系(卤)薄膜材料、制备方法及应用
其他题名稀土掺杂硫系(卤)薄膜材料、制备方法及应用
王学锋; 杨森林; 施毅; 张荣; 郑有炓
2012-07-25
专利权人南京大学
公开日期2012-07-25
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种稀土掺杂的硫系(卤)薄膜材料,在锗镓基的硫系(卤)薄膜中共同掺杂两种稀土离子,即三价稀土离子铥Tm3+和镝Dy3+;所述的薄膜材料是无定形的;形成近红外多波段发射特征的光学有源薄膜材料;其薄膜材料的化学组成与其玻璃块体靶材基本保持一致,玻璃基础靶材的组成为:GeS2:72mol%;Ga2S3:18mol%;CdI2:10mol%,且Tm3+和Dy3+的掺杂浓度为玻璃基础靶材重量比的0±0.2wt%和0.4±0.1wt%。在808nm波长的激光二极管泵浦下可以实现薄膜样品的高带宽发射。本发明所得到的无定形硫系(卤)薄膜材料组分均匀、易控制;材料制备参数易调整。
其他摘要一种稀土掺杂的硫系(卤)薄膜材料,在锗镓基的硫系(卤)薄膜中共同掺杂两种稀土离子,即三价稀土离子铥Tm3+和镝Dy3+;所述的薄膜材料是无定形的;形成近红外多波段发射特征的光学有源薄膜材料;其薄膜材料的化学组成与其玻璃块体靶材基本保持一致,玻璃基础靶材的组成为:GeS2:72mol%;Ga2S3:18mol%;CdI2:10mol%,且Tm3+和Dy3+的掺杂浓度为玻璃基础靶材重量比的0±0.2wt%和0.4±0.1wt%。在808nm波长的激光二极管泵浦下可以实现薄膜样品的高带宽发射。本发明所得到的无定形硫系(卤)薄膜材料组分均匀、易控制;材料制备参数易调整。
申请日期2012-03-05
专利号CN102603190A
专利状态失效
申请号CN201210054997.X
公开(公告)号CN102603190A
IPC 分类号C03C3/32 | C03C17/22 | G02F1/39 | H01S3/17
专利代理人汤志武
代理机构南京天翼专利代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91113
专题半导体激光器专利数据库
作者单位南京大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王学锋,杨森林,施毅,等. 稀土掺杂硫系(卤)薄膜材料、制备方法及应用. CN102603190A[P]. 2012-07-25.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN102603190A.PDF(113KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[王学锋]的文章
[杨森林]的文章
[施毅]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[王学锋]的文章
[杨森林]的文章
[施毅]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[王学锋]的文章
[杨森林]的文章
[施毅]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。