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一种电致单光子源器件及其制备方法
其他题名一种电致单光子源器件及其制备方法
马奔; 陈泽升; 尚向军; 倪海桥; 牛智川
2016-11-09
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2016-11-09
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种电致单光子源器件及其制备方法,该电致单光子源器件包括衬底;微柱结构,设置于衬底一侧;微柱填充物形成在所述微柱结构的侧壁外围,其高度不高于微柱结构高度;欧姆接触层,覆盖微柱结构和微柱填充物,并与微柱结构形成欧姆接触;上电极,设置在欧姆接触层上;以及下电极,形成于衬底的另一侧,该制备方法采用制备欧姆接触层形成于微柱结构与上电极之间,对工艺和设备要求不高。
其他摘要一种电致单光子源器件及其制备方法,该电致单光子源器件包括衬底;微柱结构,设置于衬底一侧;微柱填充物形成在所述微柱结构的侧壁外围,其高度不高于微柱结构高度;欧姆接触层,覆盖微柱结构和微柱填充物,并与微柱结构形成欧姆接触;上电极,设置在欧姆接触层上;以及下电极,形成于衬底的另一侧,该制备方法采用制备欧姆接触层形成于微柱结构与上电极之间,对工艺和设备要求不高。
申请日期2016-06-30
专利号CN106099642A
专利状态失效
申请号CN201610510717.X
公开(公告)号CN106099642A
IPC 分类号H01S5/34
专利代理人任岩
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90760
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
马奔,陈泽升,尚向军,等. 一种电致单光子源器件及其制备方法. CN106099642A[P]. 2016-11-09.
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