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半导体器件及其制造方法和用于制造半导体器件的衬底
其他题名半导体器件及其制造方法和用于制造半导体器件的衬底
小林俊雅; 东条刚
1999-10-13
专利权人索尼株式会社
公开日期1999-10-13
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要半导体器件及其制造方法和所用的衬底。可保证在半导体层中制造出良好的可解理表面。半导体层2堆叠在蓝宝石衬底1上以形成激光器结构。沿应制造腔体边缘3的半导体层2,在台面部分12的相对两侧的位置上,将条形解理辅助槽4制造成平行于半导体层2的(11—20)取向表面延伸,并从解理辅助槽4将半导体层2和蓝宝石衬底1解理,以制造由半导体层2的可解理表面制成的腔体边缘3。
其他摘要半导体器件及其制造方法和所用的衬底。可保证在半导体层中制造出良好的可解理表面。半导体层2堆叠在蓝宝石衬底1上以形成激光器结构。沿应制造腔体边缘3的半导体层2,在台面部分12的相对两侧的位置上,将条形解理辅助槽4制造成平行于半导体层2的(11—20)取向表面延伸,并从解理辅助槽4将半导体层2和蓝宝石衬底1解理,以制造由半导体层2的可解理表面制成的腔体边缘3。
申请日期1999-03-05
专利号CN1231533A
专利状态失效
申请号CN99105616
公开(公告)号CN1231533A
IPC 分类号H01L33/32 | H01L21/301 | H01L29/04 | H01L33/00 | H01L33/36 | H01S5/00 | H01S5/02 | H01S5/323 | H01S3/19
专利代理人王永刚
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90565
专题半导体激光器专利数据库
作者单位索尼株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
小林俊雅,东条刚. 半导体器件及其制造方法和用于制造半导体器件的衬底. CN1231533A[P]. 1999-10-13.
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