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氮化物半导体发光器件
其他题名氮化物半导体发光器件
神川刚; 金子佳加; 元木健作
2006-07-05
专利权人夏普株式会社
公开日期2006-07-05
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种氮化物半导体发光器件,其中,衬底或氮化物半导体层具有缺陷集中区域和低缺陷区域,低缺陷区域对应于除缺陷集中区域外的区域。包括衬底或氮化物半导体层的缺陷集中区域的部分具有比低缺陷区域要深的沟槽区域。于是,通过在缺陷集中区域中挖掘出沟槽,可以使生长方向均匀和表面平整度提高。晶片表面内的特性的均匀性导致产率的提高。
其他摘要本发明公开了一种氮化物半导体发光器件,其中,衬底或氮化物半导体层具有缺陷集中区域和低缺陷区域,低缺陷区域对应于除缺陷集中区域外的区域。包括衬底或氮化物半导体层的缺陷集中区域的部分具有比低缺陷区域要深的沟槽区域。于是,通过在缺陷集中区域中挖掘出沟槽,可以使生长方向均匀和表面平整度提高。晶片表面内的特性的均匀性导致产率的提高。
申请日期2004-05-27
专利号CN1799171A
专利状态授权
申请号CN200480015128
公开(公告)号CN1799171A
IPC 分类号H01S5/343 | H01L21/205 | H01S5/323
专利代理人陶凤波 | 侯宇
代理机构北京市柳沈律师事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90497
专题半导体激光器专利数据库
作者单位夏普株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
神川刚,金子佳加,元木健作. 氮化物半导体发光器件. CN1799171A[P]. 2006-07-05.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN1799171A.PDF(1139KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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