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一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜材料的制备工艺
其他题名一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜材料的制备工艺
李效民; 张灿云; 边继明; 于伟东; 高相东
2006-06-07
专利权人中国科学院上海硅酸盐研究所
公开日期2006-06-07
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜及其制备工艺,采用超声喷雾热解法,以Zn的有机或无机盐溶液,N的有机或无机盐溶液和Al的无机盐溶液的混合溶液为前驱体,通过调节Zn2+∶NH4+∶Al3+=1∶(1-3)∶(0.01-0.2)并控制衬底温度在600-900℃可实现对p型ZnO薄膜电性能的控制。本发明制备的p型ZnO薄膜的电阻率在10-1-10-2Ωcm,迁移率最高可达103cm2V-1s-1,并且薄膜的晶粒大小均匀、排列致密,同时薄膜具有强的(101)取向的结晶特性和常温紫外发光特性。
其他摘要本发明涉及一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜及其制备工艺,采用超声喷雾热解法,以Zn的有机或无机盐溶液,N的有机或无机盐溶液和Al的无机盐溶液的混合溶液为前驱体,通过调节Zn2+∶NH4+∶Al3+=1∶(1-3)∶(0.01-0.2)并控制衬底温度在600-900℃可实现对p型ZnO薄膜电性能的控制。本发明制备的p型ZnO薄膜的电阻率在10-1-10-2Ωcm,迁移率最高可达103cm2V-1s-1,并且薄膜的晶粒大小均匀、排列致密,同时薄膜具有强的(101)取向的结晶特性和常温紫外发光特性。
申请日期2004-12-03
专利号CN1783433A
专利状态失效
申请号CN200410089074.3
公开(公告)号CN1783433A
IPC 分类号H01L21/20 | H01S5/327 | H01S5/347
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90459
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海硅酸盐研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李效民,张灿云,边继明,等. 一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜材料的制备工艺. CN1783433A[P]. 2006-06-07.
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