一种基于EBL的激光器加工方法及其应用方法

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	一种基于EBL的激光器加工方法及其应用方法
其他题名	一种基于EBL的激光器加工方法及其应用方法
	赵建宜; 王任凡; 张明洋
	2017-07-11
专利权人	武汉光迅科技股份有限公司
公开日期	2017-07-11
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明涉及激光器技术领域，提供了一种基于EBL的激光器加工方法及其应用方法。所述加工方法包括：确定均匀光栅激光器的光栅区结构所对应的第一反射峰的相关参数；获取激光器允许制作的光栅区结构的相关参数区间；根据允许制作的光栅区结构的相关参数区间，求解得到均匀光栅所能取得的最大耦合系数，以及对应制作的光栅区结构的相关参数值；根据第一反射峰的相关参数和最大耦合系数，计算得到取样光栅的最小光栅区长度；将取样光栅的最小光栅区长度和光栅区结构的相关参数值作为激光器光栅区制作的输入参数。本发明利用含最小光栅区长度的取样光栅替代已有的均匀光栅结构，能够减少光刻的总量，改善加工工艺的复杂度，提高激光芯片的生产效率。
其他摘要	本发明涉及激光器技术领域，提供了一种基于EBL的激光器加工方法及其应用方法。所述加工方法包括：确定均匀光栅激光器的光栅区结构所对应的第一反射峰的相关参数；获取激光器允许制作的光栅区结构的相关参数区间；根据允许制作的光栅区结构的相关参数区间，求解得到均匀光栅所能取得的最大耦合系数，以及对应制作的光栅区结构的相关参数值；根据第一反射峰的相关参数和最大耦合系数，计算得到取样光栅的最小光栅区长度；将取样光栅的最小光栅区长度和光栅区结构的相关参数值作为激光器光栅区制作的输入参数。本发明利用含最小光栅区长度的取样光栅替代已有的均匀光栅结构，能够减少光刻的总量，改善加工工艺的复杂度，提高激光芯片的生产效率。
申请日期	2016-10-21
专利号	CN106941241A
专利状态	授权
申请号	CN201610921073.3
公开（公告）号	CN106941241A
IPC 分类号	H01S5/12 \| H01S5/40
专利代理人	何婷
代理机构	深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90458
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	武汉光迅科技股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	赵建宜,王任凡,张明洋. 一种基于EBL的激光器加工方法及其应用方法. CN106941241A[P]. 2017-07-11.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN106941241A.PDF（1603KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文