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电泵浦边发射半导体微腔激光器的制作工艺
其他题名电泵浦边发射半导体微腔激光器的制作工艺
路秀真; 常秀兰; 李成明; 刘峰奇; 王占国
2005-08-10
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2005-08-10
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种电泵浦边发射半导体微腔激光器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:(A)先在半导体材料上沉积电极;(B)然后光刻、湿法腐蚀出所需电极形貌;(C)再进行套刻;(D)然后用分步腐蚀的方法腐蚀出谐振腔和支架。
其他摘要一种电泵浦边发射半导体微腔激光器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:(A)先在半导体材料上沉积电极;(B)然后光刻、湿法腐蚀出所需电极形貌;(C)再进行套刻;(D)然后用分步腐蚀的方法腐蚀出谐振腔和支架。
申请日期2004-02-05
专利号CN1652418A
专利状态失效
申请号CN200410003647.6
公开(公告)号CN1652418A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/042 | H01S5/10
专利代理人汤保平
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90033
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
路秀真,常秀兰,李成明,等. 电泵浦边发射半导体微腔激光器的制作工艺. CN1652418A[P]. 2005-08-10.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN1652418A.PDF(266KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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