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Semiconductor laser device
其他题名Semiconductor laser device
YOSHIZAWA MISUZU; YAMASHITA SHIGEO; OISHI AKIO; KAJIMURA TAKASHI
1988-08-29
专利权人HITACHI LTD
公开日期1988-08-29
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To obtain an element characterized by a low threshold current value and high reliability, by providing a light-intensity-distribution correcting layer in a self-alignment type semiconductor laser device having an interface improving layer, making the light-intensity distribution in the vertical direction with respect to a bonding surface to be a symmetrical pattern, and efficiently guiding the light to an active layer. CONSTITUTION:A layer having a small Al mol ratio, i.e., a light-intensity- distribution correcting layer 3, which is a layer, whose refractive index is larger than those of n-type clad layers 2 and 4, is provided on the sides of the n-type clad layers 2 and 4 like an interface improving layer 7. When the light-intensity- distribution correcting layer 3 is provided between the first n-GaAlAs clad layer 2 and the second n-GaAlAs clad layer 4, the distribution of the light intensity (c) in the vertical direction with respect to a bonding surface becomes symmetrical. Therefore the light can be guided to an active layer (e) efficiently. Thus the element characterized by a low threshold current value and high reliability can be obtained.
其他摘要目的:通过在具有界面改善层的自对准型半导体激光器件中提供光强度分布校正层,以获得特征在于低阈值电流值和高可靠性的元件,使得光强度分布在相对于接合表面的垂直方向是对称图案,并且有效地将光引导到有源层。组成:一个具有小Al摩尔比的层,即一个光强度分布校正层3,它是一个折射率大于n型包层2和4的层,在侧面提供在第一n-GaAlAs包覆层2和第二n-GaAlAs包覆层4之间设置光强度分布校正层3时,n型包层2和4的界面改善层7与第二n-GaAlAs包层4相同。相对于粘合表面,垂直方向上的光强度(c)变得对称。因此,可以有效地将光引导到有源层(e)。因此,可以获得以低阈值电流值和高可靠性为特征的元件。
申请日期1987-02-25
专利号JP1988208290A
专利状态失效
申请号JP1987040231
公开(公告)号JP1988208290A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89440
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
YOSHIZAWA MISUZU,YAMASHITA SHIGEO,OISHI AKIO,et al. Semiconductor laser device. JP1988208290A[P]. 1988-08-29.
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