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半導体レーザ
其他题名半導体レーザ
小野村 正明; 西川 幸江; 波多腰 玄一
2003-08-22
专利权人株式会社東芝
公开日期2003-11-10
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【課題】 本発明は、結晶欠陥に起因する劣化を阻止し、信頼性の確保を図る。 【解決手段】 発光層(14,15)に接する少なくとも1つの界面には導電性酸化物(17)を設け、導電性酸化物が発光層に対してキャリア注入を行ない、且つ光閉込め又は発光取出しを行なう半導体発光装置。
其他摘要要解决的问题:防止晶体缺陷导致的劣化并确保可靠性。 解决方案:导电氧化物(17)设置在与发光层(14,15)接触的至少一个界面处,导电氧化物将载流子注入发光层,以及光限制或发光发射装置。
申请日期1995-09-06
专利号JP3464853B2
专利状态失效
申请号JP1995229045
公开(公告)号JP3464853B2
IPC 分类号H01L | H01S | H01S5/323 | H01S5/343 | H01L33/12 | H01L33/06 | H01L33/42 | H01L33/14 | H01L33/32 | H01S5/00 | H01L33/28 | H01L33/44 | H01L33/00
专利代理人鈴江 武彦
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88985
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
小野村 正明,西川 幸江,波多腰 玄一. 半導体レーザ. JP3464853B2[P]. 2003-08-22.
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