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Semiconductor laser device
其他题名Semiconductor laser device
SHIBUYA TAKAO; ITO KUNIO
1987-02-24
专利权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
公开日期1987-02-24
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To suppress multiplication of crystal defects and avoid deterioration of a laser and at the same time improve reliability in the high temperature operation by a method wherein not only an impurity which contributes to electric conduction but also an impurity which does not contribute to electric conduction is contained in an active layer which composes a semiconductor laser device. CONSTITUTION:An N-type GaAs blocing layer 2, the first P-type Al0.5Ga0.5As cladding layer 3, a nondoped Al0.1Ga0.9As active layer 4 and the second N-type Al0.5Ga0.5As cladding layer 5 are made to grow on a P-type GaAs substrate 1 by liquid phase epitaxial growth and the whole surface is covered with an N-type GaAs contact layer 6 to compose a semiconductor laser. In this constitution, although the active layer 4 is the nondoped Al0.1Ga0.9As layer, Cu, which has no contribution to electric conduction, is contained in the layer 4 with the concentration of 2X10/cm. This non-contributing element may be Fe, Ca or the like other than Cu. With this constitution, internal multiplication of crystal defects are minimized and the reliability, especially in high temperature operation, can be improved.
其他摘要目的:抑制晶体缺陷的增加,避免激光器的劣化,同时通过一种方法提高高温操作的可靠性,其方法不仅是有助于导电的杂质,还有对导电无贡献的杂质。包含在构成半导体激光器件的有源层中。组成:N型GaAs点层2,第一个P型Al0.5Ga0.5As包层3,非掺杂Al0.1Ga0.9As有源层4和第二个N型Al0.5Ga0.5As包层5通过液相外延生长使其在P型GaAs衬底1上生长,并且整个表面覆盖有N型GaAs接触层6以构成半导体激光器。在这种结构中,尽管有源层4是未掺杂的Al0.1Ga0.9As层,但是对于电导率没有贡献的Cu包含在层4中,浓度为2×1016 / cm3。该非贡献元素可以是除Cu以外的Fe,Ca等。利用这种结构,晶体缺陷的内部倍增被最小化,并且可以提高可靠性,特别是在高温操作中。
申请日期1985-08-20
专利号JP1987042591A
专利状态失效
申请号JP1985182052
公开(公告)号JP1987042591A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88907
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
SHIBUYA TAKAO,ITO KUNIO. Semiconductor laser device. JP1987042591A[P]. 1987-02-24.
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JP1987042591A.PDF(183KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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